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1、
反应离子束刻蚀技术已有效地用于研究和制造大规模和超大规模集成电路，声表面波器件，磁泡存储器，微波器件，集成光路，超导器件，闪烁光栅等。
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2、
利用计算机仿真技术对光学图样光电探测过程中存在的原理误差进行修正。
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