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1、
2、
将新器件结构与新型半导体材料相结合，提出了一种新型的n-区三层渐变掺杂理想欧姆接触型p+（SiGeC）-n&n+异质结功率二极管，并对n-区的杂质分布梯度进行了优化。
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3、
Gunn器件中掺杂梯度引起的静止畴的计算机模拟
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4、
但是，随着掺杂浓度梯度的升高与介质片厚的降低，介质的增益水平将由于ASE效应降低。
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5、
Study on the Al/ Ag doping functional gradient thin films deposited by pulsed excimer laser
脉冲激光沉积Al/Ag掺杂功能梯度薄膜
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